ZESTRON® DW は、無水洗浄でレンズ、電子基板、セラミック複合基板、パワーエレクトロニクス(パワーモジュール、リードフレーム)からワックス残渣を落とすために設計された溶剤系洗浄剤です。

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レンズ・プリント基板・パワーエレクトロニクス向け 溶剤系ワックス洗浄剤

メリット

  • 無極性の溶解力

    芳香族化合物(トルエン)やハロゲン化溶剤(ジクロロメタン)に近い、無極性の溶解力があります。

  • 蒸留して再使用できる

    蒸留で再生でき、真空蒸留と蒸気リンスを備えた一槽式の蒸気脱脂に使えます。

  • 乾燥後に残渣を残さない

    界面活性剤を含まないため、乾燥後に残渣が残りません。

  • 水なしのリンスにも対応

    無水洗浄、とくに水でリンスできない工程に向きます。イオン交換水でのリンスもできます。

  • 部品の下まで届く

    表面張力が低く、低スタンドオフの部品下に残ったワックスも落とせます。

製品の特徴

  • レンズ、基板、パワーモジュール

  • 溶剤系

  • ワックス除去

一般性状

型番ZESTRON DW
種別溶剤系ワックス洗浄剤
対象レンズ、プリント基板、セラミック複合基板、パワーモジュール、リードフレーム
除去対象ワックス(パラフィン、シリコーン、ポリエチレン)
密度0.79 g/cm³(20°C)
表面張力23.4 mN/m(25°C)
沸点範囲276〜296°C
引火点97°C
pH該当なし
蒸気圧0.1 mbar(20°C)
洗浄温度60〜80°C
水への溶解不溶
使用濃度希釈せず、そのまま
荷姿1 L / 5 L / 25 L / 200 L
保管5〜30°C。未開封で5年

蒸気リンス付きのクローズド洗浄、超音波浸漬、防爆仕様のスプレーに使えます。スプレーは防爆仕様の装置で使います。リンスは ZESTRON® DW のまま、またはイオン交換水です。RoHS(1、2、3)と WEEE に適合し、ハロゲンフリーです。

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